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H2W23-真空氫氣爐

產品簡介

H2W23-真空氫氣爐主要是用于半導體材料、納米材料、光線材料、銅粉,鈷粉,鎳粉,鎢粉,鉬粉,鎢粉,等在各種氣體保護下的各種復雜工藝,使物料與氫氣充分混合,氣體保護降溫,具有多種工藝氣體的流量控制。是科研、教學、生產、新材料研發的重要設備,廣泛適用于化工、電子、冶金、能源等行業領域。

產品型號:
更新時間:2024-11-09
廠商性質:生產廠家
訪問量:6030
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H2W23-真空氫氣爐是一款由上海皓越真空設備有限公司生產的實驗真空爐,它使用金屬鎢帶作為發熱元件,具有全金屬熱場結構。該設備以其高潔凈度、低污染、高真空度等特點,廣泛應用于電容、鉭材等金屬及難熔金屬合金、陶瓷材料等的真空或保護氣氛高溫燒結,以及金屬材料的高溫熱處理和貴金屬材料的除氣處理。

一、設備基本原理:
H2W23-真空氫氣爐是用金屬鎢帶作發熱元件及純金屬隔熱屏的全金屬熱場真空電阻爐,具有高潔凈度、污染小、高真空度等優點,主要應用于電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料等在真空或保護氣氛中高溫燒結,也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理

二、應用:
H2W23-真空氫氣爐主要是用于半導體材料、納米材料、光線材料、銅粉,鈷粉,鎳粉,鎢粉,鉬粉,鎢粉,等在各種氣體保護下的各種復雜工藝,使物料與氫氣充分混合,氣體保護降溫,具有多種工藝氣體的流量控制。是科研、教學、生產、新材料研發的重要設備,廣泛適用于化工、電子、冶金、能源等行業領域。

三、H2W23-真空氫氣爐展示圖:

H2W23-真空氫氣爐



四、設備特點:
1.設備采用臥式、側開門結構:裝、卸物料精度高,操作方便;
2.設備升溫快:升溫速率1~15℃/分鐘(≤1600℃),升溫速率1~10℃/分鐘(>1600℃);
3.溫度均勻性好:平均溫度均勻性為±5℃(5點測溫,恒溫區1000℃保溫1h后檢測);
4.安全性能好:采用HMI+PLC+PID程序控溫,安全可靠;
5.爐門鎖緊為齒嚙快卸法蘭,操作方便安全可靠。

五、H2W23-真空氫氣爐主要技術參數:

1編號H2W23
2產品型號VHHw-20/20/30-2300
3最高設計溫度(℃)2300
4加熱元件鎢帶
5加熱功率(Kw)50
6冷態極限真空度(Pa)6.7x10-3Pa(空爐、冷態、經凈化)
7測溫元件鎢錸熱電偶+紅外測溫儀
8升溫速率1~20℃/min
9溫度均勻性±5℃(5點測溫,恒溫區1000℃保溫1h后檢測)
10爐膛尺寸(mm)200x200x300(WxHxD)
11可充氣氛氫氣/氮氫混合氣
12設備外形尺寸(mm)1425x1550x1850mm(DxWxH)


六、設備安全操作規程:
1.前期準備:選擇安全的使用場所,避免在密閉空間使用。檢查爐子連接管、氣體瓶閥門等部位是否松動或磨損,確保爐子無明顯故障、漏氣等情況。
2.點火操作:按照安全操作規程進行點火,確保氫氣進入爐膛后火焰保持穩定。
3.使用注意事項:禁止在爐子周圍堆放易燃物品。若爐子出現異常情況,應及時關閉調節閥門,并向專業人員尋求幫助。使用完畢后應關閉爐子,并關閉氫氣瓶閥門。


 

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