立式管式爐的*設(shè)計(jì)能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對樣品快速升降溫，四面加熱，溫場更均勻，立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢，爐體垂直安裝在可移動(dòng)支架上有利于爐管取放溫度的均勻性，可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)?、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實(shí)驗(yàn)需要！
 

　　設(shè)備采用鋼板精工制作而成，表面采用靜電噴涂，外形美觀。工作室為剛玉管，加熱元件根據(jù)溫度需要配套(硅碳棒或硅鉬棒)，保溫材料采用輕質(zhì)保溫保溫加的硅酸鋁耐火纖維棉，與電爐配套的溫控部分采用PID可調(diào)智能儀表控制，可編制多個(gè)程序段，控制產(chǎn)品的燒制過程，并具有過流、限流、過熱等保護(hù)功能。
 

　　主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
 

　　該設(shè)備使用必須按照操作規(guī)范進(jìn)行的同時(shí)，還應(yīng)注意以下幾點(diǎn)：

　　1、檢查氣路是否暢通或漏氣。先將管路連接無誤后通氧氣，氧氣進(jìn)入吸收瓶后產(chǎn)生正常氣泡，表明氣路正常，否則說明氣路有堵塞或瓷管有斷裂，應(yīng)處理正常。

　　2、開啟電源，開啟控制器，先預(yù)置立式高溫管式爐的工作溫度為1250℃，然后調(diào)整電壓為60Ⅴ，升溫半小時(shí)，然后調(diào)整電壓至100Ⅴ，再升溫半小時(shí)，zui后調(diào)整電壓至150Ⅴ，升溫至溫度指示在1250℃。如不按照逐漸提高電壓并保證足夠時(shí)長的方式升溫，硅碳棒和瓷管受到急熱作用而容易斷裂，因而須嚴(yán)格按本規(guī)程操作，以免造成大量材料浪費(fèi)。

　　3、在工作溫度保持在1250℃左右時(shí)即可進(jìn)入樣品分析；分析結(jié)束后調(diào)整電壓歸為零位，關(guān)閉控制器開關(guān)，關(guān)閉電源，zui后關(guān)閉氧氣儀表閥門和氣瓶總閥。