技術文章
TECHNICAL ARTICLES回轉管式爐以硅碳棒為發熱元件,采用S型單鉑銠熱電偶測溫和日本島電溫控儀自動控溫,具有較高的控溫精度(±1℃)。此外該爐具有真空裝置,可在多種氣氛下工作,大大提高了其使用范圍。該爐具有使用溫度高、高精度控溫、操作簡單、維修方便等優點,可廣泛用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門。其性能達到國外同類產品的標準。結構:它由進料機構、爐體、爐管、爐架和出料機構組成,爐體由爐殼、隔熱層、發熱體組成。進料機構由進料沉降室、送料馬達、料斗、送料螺旋組成。出料機構由出料...
氣氛爐,爐膛尺寸除常規外,還有各種定做規格。更能貼近您的實驗需要。額定溫度有1100℃,1400℃,1600℃,1800℃,使用電阻絲,硅碳棒,硅鉬棒為加熱元件,型號齊全,安全可靠。同時也可為滿足不同實驗要求而特殊定做。適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結,玻璃的精密退火與微晶化,晶體的精密退火,陶瓷釉料制備,粉末冶金,納米材料的燒結,金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理。是科研單位,高等院校,工礦實驗和生產設備。氣氛爐日常中應該如何進行保養操作:1、定期檢查各接線頭接...
RTP快速退火爐操作便捷,電熱元件采用紅外燈管,升溫速度快,節省時間,滑動法蘭使裝卸樣品過程簡化,方便操作,可快速得到實驗結果,取消了反復的法蘭安裝過程,減少了爐管因安裝造成的損壞。設備擁有快的升溫速率500℃/S,而且在燒結工藝運行完結,直接將試樣在高溫區取出。實現物理狀態下的快速降溫。腔體采用內管進氣,外管出氣的氣路結構,使得反應氣氛與加工樣品充分而均勻地接觸。是CVD法生長大尺寸二維石墨烯的常用設備。測溫元件直接和試樣接觸,保證試樣溫度的準確性。使用注意事項:1、爐管內...
氣氛爐是一種先進實驗設備,適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下,氣氛熱處理的加熱設備鉬絲爐、箱式、井式、真空管式用于材料或化學實驗室,在真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品。設備主要是由上料機構、加熱爐、淬火槽、清洗機、回火爐等結構組成的,其中淬火槽和加熱爐的構造由以下幾點:淬火槽構造:裝置有變頻調速油攪拌器,可大大增加工件淬火變形;大功率冷卻才能的風冷換熱器,進步設備的平安性;封鎖的漏料器,增加工件的氧化、脫碳;用油幕,增加油煙進到加熱室。加熱...
氣氛爐以1800型硅鉬棒為加熱元件,采用雙層殼體結構和日本島電40段程序控溫系統,移相觸發、可控硅控制,爐膛采用1800型氧化鋁多晶體纖維材料,雙層爐殼間配有風冷系統,能快速對溫控系統降溫,設備采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊、并通有水冷系統,氣體經過流量計后由后膛進出,有多處洗爐膛進氣口、出氣口處有燃燒嘴,可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點,是高校、科研院機構、工礦企業做氣氛保...
先進陶瓷注射成型工藝陶瓷注射成型(CeramicInjectionMolding,簡稱CIM)是將聚合物注射成型方法與陶瓷制備工藝相結合而發展起來的一種制備陶瓷零部件的新工藝。特別是對尺寸精度高、形狀復雜的陶瓷制品的大批量生產,采用陶瓷粉末注射成型有優勢。目前,陶瓷注射成型已廣泛用于各種陶瓷粉料和各種工程陶瓷制品的成型,通過該工藝制備的各種精密陶瓷零部件,已用于航空、汽車、機械、能源、光通訊、生命醫學等領域。圖1陶瓷注射成型示意圖一、陶瓷粉末注射成型的技術特點從技術特點來說,...
真空脫脂燒結一體爐主要用于MIM/PM不銹鋼制品、多孔過濾材料、硬質合金、高溫合金、高比重合金、磁性材料、碳化物等制品的脫脂與燒結,可在同一爐體內實現連續脫脂與燒結兩道生產工序。真空脫脂燒結一體爐可在同一爐體內實現連續脫脂與燒結兩道生產工序。同爐體脫脂與燒結,可免除產品反復搬移、加熱與冷卻,提升產品質量,縮短生產周期,提高生產效率。脫脂密封爐膽和捕脂器以減少內爐壁、隔熱屏及發熱體污染,脫脂與集脂更加有效,密封爐膽有利于改善爐溫均勻性。定向氣流脫脂,強化脫脂效果,脫脂更趨*。可...
成型工藝在整個陶瓷材料的制備過程中起著承上啟下的作用,是保證陶瓷材料及部件的性能可靠性及生產可重復性的關鍵。陶瓷常用的成型方法有干壓、注漿、流延以及注射等,其中干壓成型是應用廣泛的一種成型工藝,也是手機陶瓷背板主流的成型工藝之一,下面詳細了解一下陶瓷干壓成型工藝。一、干壓成型干壓成型又稱模壓成型,是常用的成型方法之一。干壓成型是將經過造粒后流動性好,顆粒級配合適的粉料,裝入金屬模腔內,通過壓頭施加壓力,壓頭在模腔內位移,傳遞壓力,使模腔內粉體顆粒重排變形而被壓實,形成具有一定...